Vakuumschmelzverfahren:
Prozess: Zirkoniummetall in einer Vakuumumgebung schmelzen.
Vorteile: Vermeiden Sie Oxidation und Verunreinigungen und stellen Sie die hohe Reinheit des Targets sicher.
Heißisostatische Presstechnologie:
Prozess: Verwenden Sie hohe Temperaturen und hohen Druck, um Zirkoniumpulver zu einem Target zu verdichten.
Vorteile: Erzeugen Sie eine hochdichte und gleichmäßige Zielstruktur.
Elektronenstrahlschmelzverfahren:
Eigenschaften: Verwenden Sie einen Elektronenstrahl als Wärmequelle, um Zirkoniummetall zu schmelzen.
Vorteile: Der Schmelzprozess kann genau gesteuert werden, um die Gleichmäßigkeit und Reinheit des Targets zu verbessern.
Plasma-Spin-Beschichtungstechnologie:
Merkmale: Verwenden Sie die Plasmatechnologie, um Zirkoniummaterial auf einem rotierenden Substrat abzuscheiden.
Vorteile: Möglichkeit zur Herstellung von Targets mit spezifischen Mikrostrukturen, die für spezielle Anwendungen geeignet sind.
Grundlegende Details des Zhenan-Zirkoniumziels
